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2026-03-20 17:46:42
来源:zclaw

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北京芯(xin)东来半(ban)导体请求(qiu)用于wafer制备的方法专利,提拔wafer的产出质量

国家(jia)知识产权局信息(xi)显示,北京芯(xin)东来半(ban)导体科技有限公司请求(qiu)一项名为“用于wafer制备的方法、装配、设备和wafer”的专利,公开号CN121693112A,请求(qiu)日期为2026年1月。

专利摘要显示,本请求(qiu)提供一种用于wafer制备的方法,涉及半(ban)导体技术范(fan)畴,方法包(bao)括:猎取(qu)待评价平整度的wafer,将所述待评价平整度的wafer划分为多个测量场,对各测量场,以测量场中央为测量地区的中央,按预设地区规(gui)定体式格局规(gui)定测量地区,经过(guo)调焦调平分系统肯定测量地区的高度变化值,基于所述测量地区的高度变化值肯定所述测量场的高度变化值,根据所述测量场的高度变化值肯定高度变化值高于设定阈值的第一测量场,对所述第一测量场的平整度进行(xing)调解。从而(er)可以实现对wafer的部分平整度的有效调解,提拔wafer的产出质量,改善半(ban)导体制备时的工艺。

天眼查资料显示,北京芯(xin)东来半(ban)导体科技有限公司,成立于2023年,位于北京市,是(shi)一家(jia)以处置专业技术办事业为主的企业。企业注册资本3649.635万人民币。经过(guo)天眼查大(da)数据阐明,北京芯(xin)东来半(ban)导体科技有限公司共对外投资了1家(jia)企业,参与招招标项目10次(ci),产业线索(suo)方面有商标信息(xi)6条,专利信息(xi)53条。

声明:市场有风险,投资需(xu)谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构(gou)成个人投资发起。

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